HLAS-DP型電波暗室
- 發(fā)表時(shí)間:2023-02-01
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一、電波暗室簡述:
暗室主要分為半電波暗室及全電波暗室兩大類,其主要區(qū)別是半電波暗室是模擬的地面開闊場,而全電波暗室是模擬空間自由場。電磁屏蔽半電波暗室(簡稱EMC暗室)常用來替代室外開闊場地測試各種電氣、電子設(shè)備的電磁干擾特性(EMI)和電磁敏感度特性(EMS),是進(jìn)行電磁兼容認(rèn)證檢測的重要場地之一。室外場地易受周圍環(huán)境電磁噪聲的干擾和氣候條件的影響,所以常用室內(nèi)屏蔽室暗室來替代。
二、性能指標(biāo):
嚴(yán)格執(zhí)行美國FCC、ANCI C63.6—1992、IEC、CISPR及國軍標(biāo)GJB152A-97、GJB2926-97標(biāo)準(zhǔn)。
三、項(xiàng)目場地及范圍:
1、電磁兼容的各個(gè)測試項(xiàng)目都要求有特定的測試場地,其中以輻射發(fā)射和輻射抗擾度測試對場地的要求.為嚴(yán)格。
2、開闊試驗(yàn)場是重要的電磁兼容測試場地。
3、模擬開闊試驗(yàn)場的電磁屏蔽半電波暗室成了應(yīng)用較普遍的EMC測試場地。嚴(yán)格執(zhí)行美國FCC、ANCI C63.6—1992、IEC、CISPR及國軍標(biāo)GJB152A-97、GJB2926-97標(biāo)準(zhǔn)。
4、暗室和控制室要各自采用獨(dú)立的供電系統(tǒng),使用不同相的電源。
四、EMC暗室的性能指標(biāo)及結(jié)構(gòu):
1、EMC暗室的主要性能指標(biāo)采用歸一化場地衰減(NSA)和測試面空間場均勻性來衡量。
2、EMC暗室結(jié)構(gòu)通常由RF屏蔽室、吸波材料、電源、天線、轉(zhuǎn)臺及CCTV監(jiān)控等幾部分構(gòu)成。
3、其它設(shè)備:屏蔽門、通風(fēng)波導(dǎo)窗、照明燈、電源箱以及消防系統(tǒng)和報(bào)警探頭等。
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現(xiàn)在很多場合都會建設(shè)屏蔽室,因?yàn)楝F(xiàn)在是信息化的時(shí)代,計(jì)算機(jī)、通信機(jī)及電子設(shè)備在正常工作時(shí)會產(chǎn)生一定強(qiáng)度的電磁波,該電磁波可能會對其它設(shè)備產(chǎn)生干擾或是被專用設(shè)備所接收,以竊取其工作內(nèi)容,使用屏蔽室能
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